產品中心
Samcoサムコ株式會社
  • Samcoサムコ株式會社 Samcoサムコ株式會社主要經營設備化學氣相沉積原子層沉積等離子體CVD液態CVD®刻蝕ICP刻蝕深硅蝕刻反應離子刻蝕表面處理等離子清洗紫外線臭氧清洗Samcoサムコ株式會社原子層沉積(ALD)發現更多原子層沉積(ALD)是一種薄膜生長技術,能夠為電子器件(電源和射頻)沉積無針孔和均勻的絕緣體薄膜。ALD在高長寬比溝槽和通孔結構上提供了優異的保形性,在角級的厚度控制,以及基于連續、自限性反
    發布時間:2022-06-10 14:17 點擊次數:631 次

蘇公網安備 32050502000409號

精品国精品自拍自在线|色偷一区国产精品|91国在线啪精品一区|久久狠狠高潮亚洲精品|亚洲大成色www永久网站