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日本HORIBA堀場制作所：橢圓偏振光譜儀

日期：2025-06-16 03:23
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摘要：日本HORIBA堀場堀場制作所：日本HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀，日本HORIBA堀場橢偏儀，橢圓偏振光譜儀（ellipsometer），簡稱橢偏儀，是一種利用材料的光學特性進行光學常數、微結構分析和薄膜厚度測量的一種儀器。由于橢偏儀的測量過程不需要與樣品直接接觸，不會對材料表面造成損壞，也不需要真空環境，因此它成為一種簡便、快捷、易于實現的材料測量儀器。 橢偏儀的主要分析材料為半導體材料、電介質、聚合物材料等。而且由于橢偏測量技術作為一種無損測試技術，對材料的表面損傷很小，因此也可以被用作生物樣品的表面檢測。

堀場（中國）貿易有限公司是HORIBA集團在中國的總部。
1996年2月，HORIBA堀場制作所 [3] 在北京來開設了駐華辦事處，為進入中國市場做準備。2002年7月，作為堀場(HORIBA)集團在中國的生產銷售和售后服務的據點，獨資企業“堀場儀器（上海）有限公司 [2]  ”正式成立。在此基礎上，2004年，為統轄中國區業務，“堀場(中國)貿易有限公司”應運而生。

日本HORIBA堀場制作所：橢圓偏振光譜儀


薄膜表征的有效技術
橢圓偏振光譜是一種表面敏感、非破壞性、非侵入性的光學技術，廣泛應用于薄層和表面特征。它基于線偏振光經過薄膜樣品反射后偏振狀態發生的改變，通過模型擬合獲得厚度以及光學常數等。根據薄膜材料的不同，可測量的厚度從幾個?到幾十微米。橢圓偏振光譜是一種很好的多層膜測量技術。

橢圓偏振光譜儀可以表征薄膜的一系列特性，如膜厚、光學特性(n,k)、光學帶隙、界面和粗糙度厚度，薄膜組成，膜層均一性，等等。

日本HORIBA堀場制作所：橢圓偏振光譜儀

橢圓偏振光譜適合分析的材料包括半導體、電介質、聚合物、有機物和金屬。也可用于研究固-液或液-液界面。
HORIBA橢圓偏振光譜儀采用新型高頻偏振調制技術，測試過程中無任何機械旋轉。與傳統橢偏儀相比，更快的測試速度、更寬的測量范圍以及更高的表征精度。

Auto SE - 自動化薄膜測量工具一鍵式全自動快速HORIBA堀場橢偏儀


日本HORIBA堀場制作所：橢圓偏振光譜儀

Auto SE是一種新型薄膜測量工具。僅需簡單的幾個按鈕，幾秒鐘內即可自動完成樣品測量和分析，并提供完整的薄膜特性分析報告，包括薄膜厚度、光學常數、表面粗糙度和薄膜的不均勻性、反射率或透過率。
Auto SE全自動化設計、一鍵式操作，功能齊全。配備自動XYZ樣品臺進行成像分析，自動切換微光斑，多種附件可選，以滿足不同的應用需求。
Auto SE借助完整的操作向導，自動檢測并診斷問題，對故障進行處理，儀器維護簡單
Auto SE是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。
光譜范圍：440-1000nm
光斑尺寸：7個尺寸微光斑全自動切換500x500 μm; 250x500 μm; 250x250 μm; 70x250 μm; 100x100 μm; 50x60 μm; 25x60 μm
探測系統：CCD，分辨率2nm
樣品臺：真空吸盤，Z軸行程40mm
光斑可視系統：CCD攝像機-視野1.33x1 mm-分辨率10μm
量角器：固定角70°，也可選擇66°或61.5°
多種附件可選
測試時間：<2s，常規為5s
準確性：NIST 100nm d ± 4?, n(632.8nm) ± 0.002
重復性：NIST 15nm ± 0.2 ?


日本HORIBA堀場制作所：橢圓偏振光譜儀

HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀（ellipsometer），簡稱橢偏儀，是一種利用材料的光學特性進行光學常數、微結構分析和薄膜厚度測量的一種儀器。由于橢偏儀的測量過程不需要與樣品直接接觸，不會對材料表面造成損壞，也不需要真空環境，因此它成為一種簡便、快捷、易于實現的材料測量儀器。

橢偏儀的主要分析材料為半導體材料、電介質、聚合物材料等。而且由于橢偏測量技術作為一種無損測試技術，對材料的表面損傷很小，因此也可以被用作生物樣品的表面檢測。


UVISEL PLUSHORIBA堀場橢圓偏振光譜儀
研究級經典型橢偏儀
光譜范圍從FUV到NIR：190-2100nm
UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。
UVISEL Plus作為一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型，它采用了PEM 相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比， 能提供更好的穩定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術，可在3分鐘以內實現高分辨的樣品測試（190-2100 nm），校準僅需幾分鐘?；谌碌碾娮釉O備，數據處理和高速單色儀，FastAcq技術能夠為用戶提供高分辨及快速的數據采集。FastAcq專門為薄膜表征設計，雙調制技術可以確保您獲得優異的測試結果。
相位調制技術的獨有特點為高頻調制 50 kHz，信號采集過程無移動部件：
測試全范圍的橢偏角，Ψ (0-90)，Δ (0-360)
從FUV到NIR具有優良的信噪比
數據采集速度快，高達50毫秒/點，是動力學研究和在線測量的理想選擇
相比于采用 旋轉元件調制的傳統橢圓偏振光譜儀，UVISEL Plus的相位調制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面，還可以表征50μm的厚膜。
在測試有背反射的透明樣品時，測試簡單、準確，無需刮花背面。
UVISEL Plus還設計有多種附件及可選功能，便于客戶根據應用需求及預算選擇合適的配置。比如，微光斑用于圖案樣品、自動變角器、自動樣品臺等。
UVISEL Plus采用模塊化設計，可靈活擴展。即可用于離線臺式測量，也可以耦合于鍍膜設備做在線監控。
UVISEL Plus可根據習慣選擇操作界面，一個是 DeltaPsi2 具有建模和擬合處理功能；另一個是 Auto-Soft 用戶導向的全自動樣品測試界面 ，工作流程直觀，易于非專業人士操作。
UVISEL Plus搭載FastAcq技術是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領域中優選通用光譜型橢偏儀。
UVISEL Plus是材料科學研究的理想工具。


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