OTSUKA大塚電子|塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

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OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A2Otsuka大塚

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析獨立測量頭對應各種inline客制化需求支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A1Otsuka大塚

頭部集成了薄膜厚度測量所需功能通過顯微光譜法測量高精度**反射率（多層膜厚度，光學常數） 1點1秒高速測量顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）區域傳感器的**機制易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析獨立測量頭對應各種inline客制化需求支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000S分子粒徑量測系統

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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000Z分子粒徑量測系統

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ZETA電位Otsuka大塚ELSZ-2000分子粒徑量測系統

ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 ELSZ-2000 ELSZ-2000ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell
ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000

ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 ELSZ-2000 ELSZ-2000ZETA電位_Otsuka大塚分子粒徑量測系統ELSZ-2000 此設備可測量濃度低的溶液～濃度高的溶液的ZETA電位?粒徑及分子量。粒徑測量范圍（0.6nm～10μm），濃度范圍（0.00001%～40%）。實測電氣滲透流，高精度的ZETA電位測量，*小容量是130μL～的一次性cell。另，在0～90℃的大的溫度范圍內，測量自動溫度的梯度空間，分析変性?相轉移溫度
OPTM-A3_OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚

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OPTM顯微分光膜厚儀_Otsuka大塚_OPTM-A2

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OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚

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彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢

彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES 彩色濾光片分光特性測量裝置OTSUKA大冢LCF SERIES
日本大冢低相位差高速檢查設備

日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200 日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200 日本大冢低相位差高速檢查設備RE-200
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日本大冢高感度分光放射亮度儀HS-1000 日本大冢高感度分光放射亮度儀HS-1000 日本大冢高感度分光放射亮度儀HS-1000
OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備

OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series
日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備

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日本大冢高速配光測量系統GP-7

日本大冢高速配光測量系統GP-7 日本大冢高速配光測量系統GP-7 日本大冢高速配光測量系統GP-7
日本大冢分光配光測量系統GP-4000

日本大冢分光配光測量系統GP-4000 日本大冢分光配光測量系統GP-4000 日本大冢分光配光測量系統GP-4000

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