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  • 一種測量照明設備的配光特性的設備。 ?使用內部開發的分光鏡可以實現高精度的測量! -可以與配光數據一起測量顏色!- 即使在光譜測量中,也可以實現相當于照度計的高速測量! ?根據配光測量結果可以進行照明率分析!!! -符合標準的測量系統! ?也可以由測量基準部門提供技術支持! 該設備可處理從室內照明到泛光燈的各種照明設備,并滿足多種用途的需求。
  • 它以超高速,實時,高精度的晶片和樹脂非接觸方式測量晶片等的研磨和拋光過程。
  • 除了可以進行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外,我們還通過實現自動可變測量機制來支持所有類型的薄膜。除了常規的旋轉光子檢測器方法之外,通過為延遲板提供自動連接/分離機制,還提高了測量精度。  
  • 它是一種緊湊且價格低廉的膜厚計,可通過高精度光學干涉儀以簡單的操作實現膜厚測量。 我們采用了一體式的機殼,在主機中容納了必要的設備,從而實現了穩定的數據采集。 通過以低價獲得優良反射率可以分析光學常數。  
  • 多功能多通道光譜檢測器,支持紫外線至近紅外區域。光譜光譜至少可以在5毫秒內測量。標準光纖無需指定樣品類型即可支持各種測量系統。除了顯微光譜,光源發射,透射/反射測量之外,還可以通過與軟件結合來支持對象顏色評估,膜厚測量等。
  • OTSUKA大冢高靈敏度光譜輻射儀HS-1000
  • 多通道光譜儀MCPD系列,用于膜厚測量
  • Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000Otsuka大塚|大冢高靈敏度示差折光儀DRM-3000
  • 線掃描膜厚儀Otsuka大塚線掃描膜厚儀Otsuka大塚線掃描膜厚儀Otsuka大塚
  • SF-3分光干渉式晶圓膜厚儀Otsuka大塚SF-3分光干渉式晶圓膜厚儀Otsuka大塚SF-3分光干渉式晶圓膜厚儀Otsuka大塚
  • 晶圓在線測厚系統GS-300Otsuka大塚晶圓在線測厚系統GS-300Otsuka大塚晶圓在線測厚系統GS-300Otsuka大塚
  • Otsuka大塚內置膜厚監測儀Otsuka大塚內置膜厚監測儀Otsuka大塚內置膜厚監測儀
  • Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型Otsuka大塚膜厚計FE-300薄膜類型
  • Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型Otsuka大塚膜厚計FE-300標準型
  • Otsuka大塚膜厚計FE-300Otsuka大塚膜厚計FE-300Otsuka大塚膜厚計FE-300
  • 頭部集成了薄膜厚度測量所需功能 通過顯微光譜法測量高精度**反射率(多層OPTM顯微分光膜厚儀OPTM-A3Otsuka大塚膜厚度,光學常數) 1點1秒高速測量 顯微分光下廣范圍的光學系統(紫外至近紅外) 區域傳感器的**機制 易于分析向導,初學者也能夠進行光學常數分析 獨立測量頭對應各種inline客制化需求 支持各種自定義 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Otsuka大塚 OPTM顯微分光膜厚儀_OPTM-A1_Ots
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